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mosfet器件選型需掌握的3大法則及知識理解與應(yīng)用詳解-KIA MOS管

信息來源:本站 日期:2020-08-25 

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mosfet器件選型需掌握的3大法則及知識理解與應(yīng)用詳解

mosfet器件概述

mosfet器件,金屬-氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管,簡稱金氧半場效晶體管。是一種可以廣泛使用在模擬電路與數(shù)字電路的場效晶體管(field-effect transistor)。MOSFET依照其“通道”(工作載流子)的極性不同,可分為“N型”與“P型”的兩種類型,通常又稱為NMOSFET與PMOSFET,其他簡稱上包括NMOS、PMOS等。


mosfet器件的結(jié)構(gòu)

M-Metal-導(dǎo)體,O-Oxide-氧化物(絕緣體),S-Semiconductor-半導(dǎo)體,F(xiàn)-Field,E-Effect,T-Transistor -場效應(yīng)晶體管。前三個(gè)字母反應(yīng)了它的結(jié)構(gòu),MOSFET就是由導(dǎo)體-氧化物-半導(dǎo)體三層結(jié)構(gòu)組成的器件,而后三個(gè)字母則反應(yīng)了他的工作特性,它是一個(gè)感應(yīng)電壓的晶體管。

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圖1 MOSFET的結(jié)構(gòu)


第一眼看到圖1會感覺有些復(fù)雜,沒關(guān)系不要緊,我們從簡單的一點(diǎn)點(diǎn)來分析,首先看圖2,這是一個(gè)簡單的我們假想的半導(dǎo)體器件,雖然是假想的,但是不妨礙我們對其原理進(jìn)行理解。這個(gè)我們意淫的器件同樣是由導(dǎo)體、絕緣體、半導(dǎo)體三層結(jié)構(gòu)組成,這個(gè)半導(dǎo)體是P型摻雜的還是N型摻雜的我們先不管,這里我們以P型摻雜的半導(dǎo)體為例。

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圖2 一個(gè)簡單的假想的半導(dǎo)體器件


圖3左圖,如果我們在導(dǎo)體和半導(dǎo)體兩端加電壓V1,因?yàn)橛薪^緣體在中間整個(gè)器件沒有電流通過,但此時(shí)你有沒有發(fā)現(xiàn)這個(gè)器件就是一個(gè)電容,導(dǎo)體和電源正極相連帶正電荷,P型摻雜的半導(dǎo)體本來能用來導(dǎo)電的自由電子很少,但由于和電源負(fù)極相連,自由電子都聚集到和絕緣體相接的表面。這個(gè)自由電荷聚集的區(qū)域我們稱為溝道,此時(shí),溝道中沒有電流,只有電荷,其電荷數(shù)量為。

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圖3 加電壓


這里的V就是V1,C就是導(dǎo)體和半導(dǎo)體形成的電容,知道了這個(gè)原理,我們可以得到下面兩點(diǎn)初步的認(rèn)識:


①當(dāng)V1變大,電荷數(shù)量Q變大,溝道中自由電荷的密度增大;


②當(dāng)絕緣體的厚度t_ox下降,則電容C變大,電荷數(shù)量變大,溝道中自由電荷的密度增大。

看圖3右圖,當(dāng)在溝道的兩端加電壓V2,因?yàn)闇系乐斜旧泶嬖诳梢宰杂梢苿拥碾娮?,此時(shí)在溝道中就形成了電流。當(dāng)V1增大時(shí),電荷密度增加,導(dǎo)致溝道兩端之間的電阻變小,導(dǎo)致電流增大。


有了上面的理論基礎(chǔ)我們回過頭來再看圖1,是不是感覺親切了很多,但是和圖3相比,圖1有四點(diǎn)值得注意:


①該器件在下面的P型半導(dǎo)體基板上注入了兩塊重?fù)诫s的N型半導(dǎo)體。這是因?yàn)镹型半導(dǎo)體能提供自由電子,對溝道中的電流傳導(dǎo)有好處;


②所有的電壓都是在上面加的,這是因?yàn)樗械腗OSFET器件是做在晶圓上的,晶圓片的示意圖如圖4,其中藍(lán)色的小方格表示一個(gè)個(gè)小器件,所以,電壓只能從上面加,不可能從側(cè)邊和下面加。

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圖4 晶圓片示意圖


③圖3有圖有4個(gè)端口,即V1的兩個(gè)端口和V2的兩個(gè)端口,而圖1只有源級S、漏極D和柵極G三個(gè)端口,這是因?yàn)榱?xí)慣上把最下面的半導(dǎo)體基板作為參考電壓為零,沒有畫出來。而且受源級S、漏極D和柵極G三個(gè)端口電壓的影響,溝道兩邊的電壓是不均勻的,靠近源級一側(cè)的電壓為V_GS,而靠近漏極一側(cè)的電壓為V_GD。


④MOSFET器件是對稱的,哪一端是源級,那一端是漏極呢?對于圖1的MOSFET(NMOS)來說,兩個(gè)N型摻雜半導(dǎo)體上加電壓低的一端是源級,這是因?yàn)镹MOS靠電子導(dǎo)電,從電壓低的一端流到電壓高的一端,電壓低的一端為電子的“源泉”。


mosfet器件的電學(xué)符號和電學(xué)特性
(一)電學(xué)符號

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圖5 左為物理結(jié)構(gòu),右為電學(xué)符號


圖5中左圖為MOSFET的物理結(jié)構(gòu),右圖為其電學(xué)符號,這里我畫了4個(gè)是為了無論這個(gè)符號在電路圖中怎么擺放,大家都應(yīng)該認(rèn)識。這里要大家特別注意的是:符號中的箭頭不是柵極或漏極的標(biāo)志,因?yàn)镸OSFET是對稱的,哪一端是漏極或柵極需要看所加電壓的大小。這里的箭頭只是區(qū)別NMOS還是PMOS,NMOS箭頭向外如圖中所示,PMOS箭頭向里。一個(gè)簡單的記憶方法是,箭頭總是從P型半導(dǎo)體指向N型半導(dǎo)體(和二極管的箭頭類似)。


(二)電學(xué)特性

研究一個(gè)器件最直接的一種方法就是在各個(gè)端口加電壓,然后看看各個(gè)端口電流的一些性質(zhì),也就是研究該器件各個(gè)端口的伏安特性曲線。


Case I:如圖6,在MOSFET柵極加電壓,V_G>0,V_S=V_D=0。此時(shí)在溝道中聚集了電荷,電荷密度會隨著V_G的增大而增大,但是沒有電流。

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圖6 Case I


Case II:如圖7,在MOSFET柵極和漏極加電壓,V_G>0,V_D>0,V_S=0。此時(shí),V_G試溝道聚集了電荷,當(dāng)V_G>V_TH時(shí),電荷數(shù)量聚集達(dá)到一定程度,再當(dāng)V_D>0時(shí),在電壓的驅(qū)動下自由電荷運(yùn)動形成電流。

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圖7 Case II


伏安特性:① 當(dāng)V_G>V_TH為常數(shù)時(shí),從直觀上來看流過溝道的電流I_D隨著V_D的增大而增大。② 當(dāng)V_D為常數(shù)時(shí),因?yàn)閂_G越大,溝道中聚集的電子數(shù)量越多,相當(dāng)于從溝道一端到另一端的電阻越小,那么從直觀上來看流過溝道的電流I_D也會增大。


mosfet器件選型需掌握的3大法則

mosfet器件恐怕是工程師們最常用的器件之一了,但你知道嗎?關(guān)于MOSFET的器件選型要考慮各方面的因素,小到選N型還是P型、封裝類型;大到MOSFET的耐壓、導(dǎo)通電阻等,不同的應(yīng)用需求千變?nèi)f化,下面會總結(jié)一些MOSFET器件選型的3大法則,希望對大家有幫助。


(一)功率MOSFET選型第一步:P溝道還是N溝道?

功率MOSFET有兩種類型:N溝道和P溝道,在系統(tǒng)設(shè)計(jì)的過程中選擇N溝道還是P溝道,要針對實(shí)際的應(yīng)用具體來選擇。N溝道MOSFET選擇的型號多,成本低;P溝道MOSFET選擇的型號較少,成本高。


如果功率MOSFET的S極連接端的電壓不是系統(tǒng)的參考地,N溝道就需要浮地驅(qū)動、變壓器驅(qū)動或自舉驅(qū)動,驅(qū)動電路復(fù)雜;P溝道可以直接驅(qū)動,驅(qū)動簡單。


需要考慮N溝道和P溝道的應(yīng)用主要是:

(1)筆記本電腦、臺式機(jī)和服務(wù)器等使用的給CPU和系統(tǒng)散熱的風(fēng)扇,打印機(jī)進(jìn)紙系統(tǒng)電機(jī)驅(qū)動,吸塵器、空氣凈化器、電風(fēng)扇等白家電的電機(jī)控制電路。這些系統(tǒng)使用全橋電路結(jié)構(gòu),每個(gè)橋臂可以使用P溝道或者N溝道。


(2)通信系統(tǒng)48V輸入系統(tǒng)的熱插撥MOSFET放在高端,可以使用P溝道,也可以使用N溝道。


(3)筆記本電腦輸入回路串聯(lián)的、起防反接和負(fù)載開關(guān)作用的兩個(gè)背靠背的功率MOSFET。使用N溝道需要控制芯片內(nèi)部集成驅(qū)動的充電泵,使用P溝道可以直接驅(qū)動。


(二)選取封裝類型

功率MOSFET的溝道類型確定后,第二步就要確定封裝,封裝選取原則有:


(1)溫升和熱設(shè)計(jì)是選取封裝最基本的要求

不同的封裝尺寸具有不同的熱阻和耗散功率,除了考慮系統(tǒng)的散熱條件和環(huán)境溫度,如是否有風(fēng)冷、散熱器的形狀和大小限制、環(huán)境是否封閉等因素,基本原則就是在保證功率MOSFET的溫升和系統(tǒng)效率的前提下,選取參數(shù)和封裝更通用的功率MOSFET。


有時(shí)候由于其他條件的限制,需要使用多個(gè)MOSFET并聯(lián)的方式來解決散熱的問題,如在PFC應(yīng)用、電動汽車電機(jī)控制器、通信系統(tǒng)的模塊電源次級同步整流等應(yīng)用中,都會選取多溝道并聯(lián)的方式。


(2)系統(tǒng)的尺寸限制

有些電子系統(tǒng)受制于PCB的尺寸和內(nèi)部的高度,如通信系統(tǒng)的模塊電源由于高度的限制通常采用DFN5*6和DFN3*3的封裝;在有些ACDC的電源中,由于使用超薄設(shè)計(jì)或由于外殼的限制,裝配時(shí)TO220封裝的功率MOSFET溝道腳直接插到根部,由于高度的限制不能使用TO247的封裝。


有些超薄設(shè)計(jì)直接將器件溝道腳折彎平放,這種設(shè)計(jì)生產(chǎn)工序會變復(fù)雜。在大容量的鋰電池保護(hù)板中,由于尺寸限制極為苛刻,現(xiàn)在大多使用芯片級的CSP封裝,盡可能提高散熱性能同時(shí)縮小尺寸。


(3)成本控制

早期很多電子系統(tǒng)使用插件封裝,這幾年由于人工成本增加,很多公司開始改用貼片封裝,雖然貼片的焊接成本比插件高,但是貼片焊接的自動化程度高,總體成本仍然可以控制在合理的范圍。在臺式機(jī)的主板和板卡等一些對成本極其敏感的應(yīng)用中,通常采用DPAK封裝的功率MOSFET。


因此在選擇功率MOSFET的封裝時(shí),要結(jié)合產(chǎn)品的特點(diǎn),綜合考慮上面因素選取適合的方案。


(三)選取導(dǎo)通電阻RDSON,注意:不是電

很多時(shí)候工程師關(guān)心RDSON,是因?yàn)镽DSON和導(dǎo)通損耗直接相關(guān)。RDSON越小,功率MOSFET的導(dǎo)通損耗越?。恍试礁?、溫升越低。


同樣的,工程師盡可能沿用以前項(xiàng)目中或物料庫中現(xiàn)有的元件,對于RDSON的真正選取方法并沒有太多的考慮。當(dāng)選用的功率MOSFET的溫升太低,出于成本的考慮,會改用RDSON大一些的元件;當(dāng)功率MOSFET的溫升太高、系統(tǒng)的效率偏低,就會改用RDSON小一些的元件,或通過優(yōu)化外部的驅(qū)動電路,改進(jìn)散熱的方式等來進(jìn)行調(diào)整。


如果是一個(gè)全新的項(xiàng)目,沒有以前的項(xiàng)目可循,那么如何選取功率MOSFET的RDSON?這里介紹一個(gè)方法給大家:


功耗分配法

當(dāng)設(shè)計(jì)一個(gè)電源系統(tǒng)的時(shí)候,已知條件有:輸入電壓范圍、輸出電壓/輸出電流、效率、工作頻率和驅(qū)動電壓,當(dāng)然還有其他的技術(shù)指標(biāo),但和功率MOSFET相關(guān)的主要是這些參數(shù)。步驟如下:


(1)根據(jù)輸入電壓范圍、輸出電壓/輸出電流和效率,計(jì)算系統(tǒng)的最大損耗。


(2)對功率回路的雜散損耗、非功率回路元件的靜態(tài)損耗、IC的靜態(tài)損耗以及驅(qū)動損耗做大致的估算,經(jīng)驗(yàn)值可以占總損耗的10%~15%。如果功率回路有電流取樣電阻,則計(jì)算電流取樣電阻的功耗??倱p耗減去上面的這些損耗,剩下部分就是功率器件、變壓器或電感的功率損耗。將剩下的功率損耗按一定的比例分配到功率器件和變壓器或電感中,不確定的話,按元件數(shù)目平均分配,這樣就得到每個(gè)MOSFET的功率損耗。


(3)將MOSFET的功率損耗,按一定的比例分配給開關(guān)損耗和導(dǎo)通損耗,不確定的話,平均分配開關(guān)損耗和導(dǎo)通損耗。


(4)通過MOSFET導(dǎo)通損耗和流過的有效值電流,計(jì)算最大允許的導(dǎo)通電阻,這個(gè)電阻是MOSFET在最高工作結(jié)溫的RDSON。數(shù)據(jù)表中功率MOSFET的RDSON標(biāo)注有確定的測試條件,在不同的既定條件下具有不同的值,測試的溫度為:TJ=25℃,RDSON具有正溫度系數(shù),因此根據(jù)MOSFET最高的工作結(jié)溫和RDSON溫度系數(shù),由上述RDSON計(jì)算值,得到25℃溫度下對應(yīng)的RDSON。


(5)通過25℃的RDSON來選取型號合適的功率MOSFET,根據(jù)MOSFET的RDSON實(shí)際參數(shù),向下或向上修整。通過以上步驟,就可以初步選定功率MOSFET的型號和RDSON參數(shù)。


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