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信息來源:本站 日期:2017-09-19
MOS開關(guān)
開關(guān)在集成電路設(shè)計中有很多作用。在模擬電路中,開關(guān)被用來實現(xiàn)諸如電阻的開關(guān)仿真[1]等有用的功能。開關(guān)同樣也用于多路選擇、調(diào)制和其他許多應(yīng)用。在數(shù)字電路中,開關(guān)被用做傳輸門,并加入了在標(biāo)準(zhǔn)邏輯電路沒有的尺寸的靈活性。本節(jié)的目的是研究與CMOS集成電路兼容的開關(guān)特性。
我們從電壓控制開關(guān)的特性開始。圖4.1-1所示為該器件模型。電壓vc控制開關(guān)的狀態(tài)——開或關(guān)。電壓控制開關(guān)是一個三端網(wǎng)絡(luò),其中A、B端組成開關(guān),c端是控制電壓vc作用端。開關(guān)最重要的特性是它的導(dǎo)通電阻roN和關(guān)斷電阻rOFF。理想情況下,rON為零而roFF為無窮大,實際上并非如此。此外,這些值與端口條件有關(guān),絕不會是常數(shù)。通常,開關(guān)會有一些電壓偏移,圖4.1-1中用Vos模擬。Vos表示當(dāng)開關(guān)為導(dǎo)通狀態(tài)、電流等于零時,端點A和B之間存在的小幅值電壓。IOFF表示開關(guān)為斷開狀態(tài)的漏電流。電流IAIB表示開關(guān)端點與地之間的漏電流(或其他電源電壓)。圖4.1-1中偏移源和漏電流的極性是不確定的,圖中的方向是任意標(biāo)注的。在模擬采樣數(shù)據(jù)電路應(yīng)用中,寄生電容是一個需認(rèn)真考慮的問題。電容CA和CB是開關(guān)端A、B與地之間的寄生電容。電容CAB開關(guān)端A、B之間的寄生電容。電容CAC和CBC存在于電壓控制端C和開關(guān)端A、B之間的寄生電容。電容CAC和CBC的影響稱為電荷饋通——由此控制電壓的一部分會出現(xiàn)在開關(guān)A、B端。
MOS技術(shù)的一個優(yōu)點是可提供一個性能良好的開關(guān)。圖4.1-2顯示了一個MOS晶體管被用做開關(guān)的情況。它的性能可以由圖4.1-1顯示的MOS晶體管大信號模型構(gòu)成的開關(guān)確定??梢钥吹?,MOS晶體管的漏極或源極做端點A或o取決于端點電壓(即,對n溝道管,如果A端電位高于B,那么A端是漏極,B端是源極)。導(dǎo)通電阻由rD、rs的組合與始終存在的溝道電阻串聯(lián)組成。通常rD和rs的影響很小,所以主要考慮溝道電阻。溝道電阻的表達(dá)式可這樣求得:在開關(guān)導(dǎo)通狀態(tài),開關(guān)兩端的電壓很小,且VGS很大。因此,MOS器件可以假設(shè)工作在非飽和區(qū)。式(3.1-1)重寫如下以表示這個狀態(tài):
式中,VDS比VGS - VT小,但是比零大(VDS為負(fù)時,VGS變?yōu)?VGD)。小信號溝道電阻由下式給出:
式(4.1-2)中的Q是晶體管的靜態(tài)工作點。圖4.1-3說明了n溝道管漏極電流隨漏、源電壓變化的曲線,其巾管子的寬長比WIL=5/1,VGS等間隔增加。此圖說明了MOS管下作的一些重要原理。注意,圖中的曲線并不是關(guān)于Vl=0對稱的。這是因為晶體管端(漏、源)開關(guān)起著Vl過零的轉(zhuǎn)換作用。例如,當(dāng)VI為正時,B點是漏極,A點為源極,且VBS同定為-2.5V,VGS由給定的VG固定。當(dāng)V1為負(fù)時,B點為源極,A點為漏極,且VI和VBS連續(xù)減少,而VGS增加,從而導(dǎo)致電流增加。
圖4.1-4顯示了當(dāng)VDS=0.1V、W/L=1、2、5和10時rON隨VGS變化的圖。從圖中可以看出W/L越大,roN越低。當(dāng)VGS減到VT(VT=0.7V)時,rON為無窮大,因為開關(guān)斷開。
當(dāng)VGS小于或等于VT時,開關(guān)斷開,理想情況下rOFF為無窮大。當(dāng)然,它不可能為無窮大。但因為它非常大,截止?fàn)顟B(tài)的性能由漏極-體和源極-體的漏電流決定,就像亞閾值電壓區(qū)從漏到隙的漏電流一樣。從源和漏到體的漏電流主要是pn結(jié)漏電流,在圖4.1-1中用IA和IB模擬。典型情況下,漏電流在室溫下為1fA/μm2的數(shù)量級,且溫度每升高8℃而增長一倍(見例2.5-1)。
圖4.1-1中模擬的失調(diào)電壓在MOS開關(guān)中不存在,因此,在MOS開關(guān)性能中不必考慮。圖4.1-1中的電容CA、CB、CAC和CBC直接對應(yīng)于MOS管的電容CBS、CBD、CGS和CCD(見圖3.2-1)。MOS管的CAB很小,通??梢院雎浴?
開關(guān)的一個重要方面是開關(guān)端和控制端問電壓的變化范圍。對n溝道MOS管,我們看到柵極電壓應(yīng)該比源和漏極電壓大得多,以確保MOS管導(dǎo)通。作為p溝道管,柵極電壓應(yīng)該比源和漏極電壓小得多。典型情況下,n溝道開關(guān)的體接最負(fù)值(p溝道開關(guān)的體接最高電位)。這個要求可以用n溝道開關(guān)來說明。假設(shè)柵極的導(dǎo)通電壓是正電源電壓VDD,體接地,保持n溝道開關(guān)導(dǎo)通,直到開關(guān)端信號(源、漏端電壓近似相等)接近VDD-VT。當(dāng)信號達(dá)到VDD-VT時,開關(guān)開始轉(zhuǎn)向關(guān)斷。n溝道開關(guān)的典型電壓如圖4.1-5所示,其中開關(guān)被連接在兩個網(wǎng)絡(luò)中間。
如圖4.1-6所示,考慮利用開關(guān)為電容充電。n溝道管被用做升關(guān),且Vφ是作用在柵極上的控制電壓(時鐘)。在電路的電荷轉(zhuǎn)移過程中,開關(guān)的導(dǎo)通電阻起重要作用。例如,當(dāng)Vφ升高(Vφ>Vin+ VT),M1將C連接到電壓源vin此時的等效電路如圖4.1-7所示,可以看做C以時間常數(shù)rON C充電到Vin。為了有效地工作,必須滿足rON C<
考慮這樣一種情況,Vφ為高電平的時間T=0.1μS,C=0.2pF,那么導(dǎo)通電阻rON必須小于100kΩ才能滿足電荷轉(zhuǎn)移時間等于5倍時間常數(shù)。對于5V的時鐘擺幅和2.5V的Vin以及圖4.1-4中示出的W=L的MOS管,rON≈6.4kΩ。此值在所要求的時間內(nèi)進(jìn)行電荷轉(zhuǎn)移來說已足夠小。我們希望開關(guān)盡可能?。淳哂凶钚〉腤xL),從而可以減小來自柵極的電荷饋通。
圖4.1-6中的開關(guān)在關(guān)斷狀態(tài)除了其漏電流之外,對電路的影響很小。圖4.1-8顯示了一個采樣保持電路,電路中漏電流可能引起嚴(yán)重問題。如果CH不夠大,那么在保持模式中MOS開關(guān)是斷開的,漏電流會使CH充上或放掉相當(dāng)量的電荷。
在單片集成電路開關(guān)中,最嚴(yán)重的限制之一是時鐘饋通效應(yīng)。時鐘饋通(也稱做電荷注入和電荷饋通)是由于柵到源和漏的耦合電容引起的。這個耦合會導(dǎo)致柵極信號(一般是時鐘)傳送到源極昶I漏極節(jié)點,這是一個雖不希望但卻不可避免的影響。電荷注入涉及一個復(fù)雜的過程,引起的影響取決于諸如晶體管的版圖、尺寸、源極和漏極節(jié)點的阻抗和柵極的波形等一系列因素。試圖對所有這些影響進(jìn)行精確的分析是不可能的——我們用計算機去做!然而,對這些重要影響的定性了解仍是有用的。
考慮適合于研究電荷注入分析的簡單電路如圖4.1-9(a)所示。圖4.1-9(b)給出了管子的模型,用電阻Rchannel和Cchannel表示溝道電阻和柵-溝道耦合電容。Cchannel和Rchannel值取決于器件(的端口情況。溝道中的分布電阻用Rchannel表示。除溝道電容外還有交疊電容CGSO和CGDO。為了近似計算總溝道電容,可如圖4.1-9(c)所示將耦合電容分成兩個相等的部分并入柵—源端和柵-漏端。這樣的處理是有益的。
圖4.1-9電路中,電荷隨著管子?xùn)艠O電壓φ1高到低的跳變而產(chǎn)牛的注入是令人感興趣的。此外,考慮柵電壓過渡的兩種情況(快躍變時間和慢躍變時間)很方便。首先考慮慢躍變情況(慢和快的意思很快將會介紹)。當(dāng)柵極電壓降低時,有電荷注入溝道。但是最初管子保持導(dǎo)通狀態(tài),所以無論怎樣,注入的電荷只在輸入電壓源VS中流動,不會出現(xiàn)在負(fù)載電容CL上。隨著柵極電壓降低到某一點,管子截止(當(dāng)柵極電壓達(dá)到VS+VT時)。當(dāng)管子截止時,注入電荷除了流進(jìn)CL之外沒有其他路徑可走。
對于快躍變的情況,與溝道電阻和溝道電容有關(guān)的時間常數(shù)限制著流向電壓源的電荷量,因此當(dāng)晶體管處于導(dǎo)通狀態(tài)時,一些注入的溝道電荷就提供給CL以影響其匕的總電荷。
為了對快慢情況有更進(jìn)一步的了解,將柵極電壓模擬為分段恒定波形(一個量化波形)并考慮每個跳變過程中電荷的流動,如圖4.1-10所示。圖中,所示的CL電壓的變化范圍表示管子導(dǎo)通時的工作情況。在兩種情況中,量化的電壓步長是相同的,但是步長間的時間是不同的。CL兩端電壓是呈指數(shù)變化的,其時間常數(shù)由溝道電阻和溝道電容決定,并不隨快、慢情況而改變。
分析表達(dá)式可以得出對管子在快慢情況下工作的近似描述[2]??紤]柵極電壓從VH到VL的變化(即5.0V到0.0V),其在時域中可以描述為:
這里的U是VG(t)的斜率。工作在慢躍變時由以下關(guān)系所確定:
這里VHT定義為:
由電荷注入引起的誤差(所希望的電壓Vs和實際電壓VcL之間的差)由下式描述:
在快開關(guān)情況下由下列關(guān)系確定:
誤差電壓給出為:
下面的例子說明由式(4.1-3)到式(4.1-8)所給出的電荷饋通模擬的應(yīng)用。
例4.1-1 電荷饋通誤差的計算
計算圖4.1-9所示電路中電荷饋通的影響。其中Vs=1.0V,CL=200fF,W/L=0.8μm/0.8μm,VG有兩種情況見下圖的說明。模型參數(shù)見表3.1-2和表3.2-1。忽略AL和△W的影響。
解:
情況1:第一步要確定表達(dá)式中U的值:
在0.2ns之后,從5V跳變到OV,U=25x109V/s。
為了確定工作狀態(tài),必須首先驗證下面的關(guān)系:
觀察到在晶體管開關(guān)上有反向偏置影響VT,VHT為:
因此給出:
所以為快速狀態(tài)。
由快速狀態(tài)應(yīng)用式(4.1-8)得:
情況2:第一步要確定表達(dá)式中U的值:
在10 ns之后從5V降到OV時,U=5xl08,于是按照下面的測試表明是慢速狀態(tài):
這個例子說明了電荷饋通模型的應(yīng)用。讀者應(yīng)該得到警示,不要期望從式(4.1-3)到式(4.1-8)得到實際電路中關(guān)于電荷饋通量的精確答案。這個模型只是有助于了解各種電路元件和端口條件的影響,以便在最小化設(shè)計中出現(xiàn)不希望有的現(xiàn)象。
采用圖4.1-11所示的技術(shù)有可能部分抵消饋通效應(yīng)。在這里虛擬MOS管MD(這里源和漏被接到信號線,柵極接反相時鐘端、)被用來提供與Ml反相的時鐘饋人。MD的面積可以被設(shè)計成提供最小的時鐘饋通。但遺憾的是,這個辦法不可能完全消除饋通,并且在某些情況下還會更糟。另外還必須提供一個反相時鐘作用到虛擬開關(guān)上??梢酝ㄟ^采用最大可能的電容、相對較小幾何尺寸的開關(guān)和保持盡可能小的時鐘擺幅來減少時鐘饋通。通常,這些解決方案會在其他方面產(chǎn)生問題,這就需要進(jìn)行一些折中。
單溝道MOS升關(guān)導(dǎo)致的動態(tài)范網(wǎng)限制可以采用圖4.1-12所示的CMOS開關(guān)加以避免。使用CMOS技術(shù),開關(guān)通常由如圖所示的、并聯(lián)的p溝道和n溝道增強型管構(gòu)成。在這種結(jié)構(gòu)中,當(dāng)φ值為低時,兩只管子均截止,實現(xiàn)一個有效的開路。當(dāng)φ值為高時,兩只管子均導(dǎo)通,給出一個低阻抗?fàn)顟B(tài)。p溝道管和n溝道管的體分別連接至最高和最低電位。CMOS開關(guān)優(yōu)于單溝道MOS開關(guān)的主要方面是在導(dǎo)通狀態(tài)下模擬信號的動態(tài)范圍明顯增加。
在圖4.1-13中模擬信號動態(tài)范圍的增加是顯然的,圖中畫出了CMOS開關(guān)導(dǎo)通電阻作為輸入電壓函數(shù)的變化關(guān)系。此圖中,p溝道管和n溝道管的尺寸這樣來設(shè)置,以至于在相同端口條件下有等效的電阻。雙峰性能是由于當(dāng)Vin為低電平時,n溝道管起主導(dǎo)作用,而Vin為高電平(接近VDD)時p溝道管起主導(dǎo)作用。在中間(VDD/2附近),兩個管子的并聯(lián)導(dǎo)致出現(xiàn)最低值。中間的凹點是由于遷移率降低的影響,在用LEVEL 1模型分析時并不明顯。
在本節(jié)中,我們已經(jīng)看到MOS管可以構(gòu)成積分電路中最好的開關(guān)之一。它們只需要很小的面積,非常低的功耗,并且在多數(shù)應(yīng)用中能夠提供合理的rON和roFF值。把適宜的開關(guān)實現(xiàn)放進(jìn)設(shè)計者的基本設(shè)計模塊中將產(chǎn)生一些有趣和有用的電路及系統(tǒng),這些將在以后幾章介紹。
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