MOS管襯底電位接法|PMOS、NMOS襯底連接-KIA MOS管
信息來源:本站 日期:2022-01-06
P-SUB工藝,NMOS 的襯底都是一樣的,都是P-SUB,所以不可以將源極和襯底接一塊,不然通過襯底短接會(huì)影響其他NMOS的特性,因此NMOS的襯底只能接GND(低電位);
P-SUB工藝,PMOS管的N襯底都是單獨(dú)的,因此可以將源極和襯底接一塊來減小襯偏效應(yīng);
N-WLL工藝,PMOS的襯底都是一樣的,都是N-WELL,因此不可以將源極和襯底接一塊,不然通過襯底短接會(huì)影響其他PMOS的特性,因此PMOS的襯底只能接VDD(高電位);
N-WELL工藝,NMOS管的P襯底都是單獨(dú)的,因此可以將源極和襯底接一塊來減小襯偏效應(yīng);
Deep Nwell,是在PSUB工藝情況下,對(duì)NMOS管可以采取的一種隔離方式,底部是deep nwell,周圍是nwell形成的一個(gè)環(huán),來隔離共襯底引起的噪聲干擾。
在schematic原理圖中搭建電路時(shí),所有pmos的襯底需要接VDD,所有nmos的襯底需要接VSS。
在layout版圖中,VDD供電時(shí),選擇的通孔類型的M1_NW,因?yàn)镻MOS器件做在N阱中。
相對(duì)應(yīng),VSS供電選擇的通孔類型為M1_SUB。
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